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目次はこんな感じです。

  • 第1章 序論 第2章 フィックの拡散方程式とその解
  •   フィックの拡散方程式
  •   拡散係数が一定の場合のフィックの第2法則の解
  •   濃度に依存する拡散係数の場合の解 第3章 実験方法
  •   トレーサー法
  •   化学的な濃度勾配での測定
  •   物理的な測定 第4章 格子欠陥
  •   空孔
  •   格子間原子
  •   転位および粒界 第5章 拡散理論
  •   フィックの拡散方程式の熱力学的な導出
  •   座標系の選択
  •   拡散の現象論的-熱力学的取扱いの一般論
  •   拡散の反応速度論的取り扱い
  •   平均2乗変位と相関係数
  •   活性化エンタルピーおよび活性化エントロピーの温度依存性
  •   単空孔および複空孔を介しての位置交換
  •   拡散係数の圧力依存性
  •   拡散の質量依存性 第6章 純金属における拡散
  •   fcc構造の金属
  •   bcc構造の金属 第7章 合金における拡散
  •   希薄合金
  •   高濃度合金
  •   多元系での拡散 第8章 金属におけるガス原子および炭素の拡散
  •   はじめに
  •   格子間位置
  •   格子間拡散研究のための特殊な方法
  •   金属における水素同位体の拡散挙動
  •   fcc金属における水素同位体の拡散
  •   金属における炭素,窒素および酸素の拡散 第9章 粒界拡散,転位拡散および表面拡散
  •   粒界拡散
  •   転位拡散
  •   表面拡散 第10章 アモルファス金属合金における拡散
  •   1つの基礎
  •   アモルファス合金における拡散研究のための実験方法
  •   構造緩和および拡散
  •   アモルファス状態および結晶状態における拡散
  •   アモルファス合金における拡散係数の温度依存性
  •   反応拡散によるアモルファス化 付録A 多相拡散の実験解析のためのパラメーター
  • 付録B 拡散に関連する専門書および文献 (訳者による追補)
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レビュー

出版社/著者からの内容紹介


「拡散」は物質の諸現象や反応の素過程として重要であり,熱力学,統計熱力学,格子欠陥理論と密接に関係し,材料科学だけでなく,材料開発にも不可欠である.拡散が関与する現象や過程は,半導体ドーピング,超伝導材料の製造,多層膜反応,マクロ・メゾ・ナノサイズのミクロ組織制御、鉛フリーはんだの界面反応,ULSI配線のEM,金属ガラスの結晶化,拡散接合,水素吸蔵、水素脆化、酸化、焼結など多岐にわたり,拡散の重要な役割は多くの分野で再認識されている.
本書は,最近の成果も取り入れた待望の拡散研究の集大成である.拡散理論、拡散係数の測定法,純金属・合金における拡散,金属におけるガス原子の拡散,粒界拡散,転位拡散,表面拡散,アモルファス合金における拡散など,緻密で理路整然とした示唆に富む表現で詳しく説明されている.付録では訳者により最新の研究を含む総計約2000件の文献が追加された.
拡散や拡散に関連する材料の研究者や技術者の必読文献である.


著者略歴 (「BOOK著者紹介情報」より)


ホイマン,Th.
Institut f¨ur Metallforschung、Universit¨at M¨unsterで長年にわたり拡散研究に従事。2004年、歿

藤川 辰一郎
東北大学工学部卒業。東北大学大学院工学研究科修了。工学博士。東北大学金属材料研究所、同大学工学部材料物性学科および同大学大学院工学研究科材料物性学専攻勤務を経て、現在、東北軽金属研究室代表。その間、Max‐Planck‐Institute f¨ur Metallforschung、Institut f¨ur Physik;Universit¨at Stuttgart、Institut f¨ur Theoretische und Angewandte Physik;Hahn‐Meitner‐Institut Berlin、Bereich Kernchemie und Reaktor各客員研究員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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